实验室新购置的Gatan PECS II 685离子刻蚀仪已完成安装调试，于2025年4月27日开放试运行，欢迎大家预约使用！

仪器介绍

Gatan PECS II 685离子刻蚀仪是对块状材料进行扫描电镜样品制备的重要设备，它用于块体材料扫描电镜样品的刻蚀和镀膜，使得样品能够在扫描电镜中进行微观形貌、EDS和EBSD分析。

离子刻蚀仪在高真空条件下，两个宽束氩离子源从潘宁式离子枪打到样品表面，进行刻蚀，去除损伤层，得到高质量无损样品。刻蚀后，两个宽束氩离子源轰击腔室靶材表面，受到离子轰击时靶材表面原子产生溅射等物理过程，实现靶材原子从靶材源物质到抛光后样品表面的物质转移，从而在样品表面沉积形成一层薄膜，增加样品在扫描电镜中的导电性。

功能与技术参数

1．功能：平面抛光、截面切割、高精度镀膜（C，Au，Cr）。

2.  离子枪：两只潘宁式离子枪，可独立调节，聚焦离子束设计，角度0°~18°，离子枪能量0.1-8 keV。

3.  样品台：360°旋转，转速1~12 rpm可调。

4.  夹具：平抛台尺寸，直径32 mm；截面挡板尺寸，12mm×10 mm。

5.  液氮冷台控温系统：杜瓦罐容量≥350 ml，具备一键加热功能，温度控制范围-150 ℃至室温。

6.  LED触屏控制：菜单化操作，支持制样程序的设定和储存。

样品要求

样品直径≤15 mm（镶嵌样品另议）、高度≤10mm，表面需平整光洁。

设备安放地点：先进制造工程大楼西楼三楼C302室

联系人及联系方式：洪老师  13237113691          柯老师  13720380255