2016年5月18日上午，实验室第171期“杰出学者讲坛”在先进制造大楼西楼A308报告厅顺利举行。本期主讲人是来自美国劳伦斯伯克利国家实验室（Lawrence Berkeley National Laboratory）的高级科学家André Anders博士，报告题目“Cathodic arc plasmas: An introduction from historic roots to modern applications”和“Getting Published: From Understanding to Mastering the Publication Process in a Peer-Reviewed Journal”。华中科技大学材料学院柳林教授主持了此次讲坛，吴跃教授、李宁教授等老师出席。

André Anders教授主要从事等离子体物理气相沉积，包括磁控溅射、阴极电弧沉积、等离子体注入等等。报告会上，在柳林教授简单介绍了André Anders教授的基本情况后，André Anders教授向我们展示了阴极电弧沉积的一系列研究。这些研究涉及其历史根源、物理机理、现实应用和应用中出现的问题以及解决方案。随后，André Anders教授介绍了作为JAP主编对文章发表的心得体会。

André Anders教授的报告内容引起了老师和学生们的极大兴趣，触发了激烈的讨论，将整个报告会推向了高潮。报告会后，很多同学进行了提问，André Anders教授都耐心地进行了解答，形成了很好的互动氛围。André Anders教授有着深厚的学术底蕴并且对学术有很严谨的态度，尽管获得过很多很高的荣誉，André Anders教授也以平和的心态来对待，这些都值得我们好好学习。