资产编号：02220654 

设备名称：离子清洗溅射仪

设备型号：ISC150+RPS20T

生产厂家：深圳市速普仪器有限公司

设备介绍

本设备采用无油隔膜泵和分子泵组产生一个洁净的10-3 Pa级的真空压强，通常抽真空时间小于5分钟；配置的原位等离子清洗源，采用气压为0.5~5 Pa的氩气可清洗SEM样品镀膜前表面的有机污染，同时对样品表面具有等离子活化作用，使喷射的贵金属颗粒更加细腻；采用高品质恒功率磁控溅射电源，确保恒定沉积速率；操作方式，触屏控制。

主要技术指标

1. 极限真空：< 5×10-3 Pa。

2. 工作气压：0.5~2 Pa，恒流量控制，氩气或空气。

3. 靶材尺寸：φ50 mm×(0.1~3) mm。

4. 恒功率磁控直流溅射电源：最大功率30 W，最大电流100 mA。

5. 沉积速率：Pt靶，~25 nm/min；Au靶，~40 nm/min。

6. 真空等离子清洗模块：5~30 W PF射频功率，恒功率控制，手动匹配。

主要功能

用于SEM样品的磁控溅射镀贵金属膜以及碳氢污染、表面活化、亲水处理。

样品要求

样品尺寸：≤20×20 mm2。

安放地点：先进制造工程大楼西楼一楼C101-2室

联系人及联系方式：熊老师       153 2712 2210