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华中科技大学材料成形与模具技术全国重点实验室
电话:027-87554405
发布时间:2019-07-03 编辑:操莉 来源: 浏览次数:
各位老师、同学:
近期微纳操纵及原位光电分析测试系统和FEI场发射扫描电镜受到不明原因的电磁干扰的影响,导致二次电子和背散射电子成像不稳定。电磁干扰时间间隔有一定规律性,但也不排除较长时间持续的干扰,对照片质量要求高及无法较长时间等待的老师和同学请联系相关负责老师取消测试。
材料成形与模具技术国家重点实验室
2019年7月3日
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